今天，知识产权信息珠珠给大家分享带来的《2014PhotokinaNiSi耐司携专利新品参展》，如果您对2014PhotokinaNiSi耐司携专利新品参展感兴趣，请往下看。
德国科隆photokina每两年举办一次。photokina代表了国际影像、光学照相器材等行业的最新发展趋势和水平，是影像器材领域水平最高的盛会。它也是世界上唯一的为大众消费者和专业人士提供所有成像介质、成像技术与成像市场综合性展示的展览会。本届photokina2014于9月16日至21日在科隆举行，许多中国企业前来参加photokina，NiSi耐司也携带诸多新品前来参展。
方形光学滤镜产品线新增ND3200和SoftNanoGND16
NiSi耐司在此次photokina展会上推出双面镀膜ARND32000滤镜，可实现15档减光效果，双面镀防水防眩光超宽带减反射膜（BBAR，绿色），有效消除眩光和鬼影，不易残留脏污和水迹，增强防划伤功能。经过精密研磨抛光，以达到完美的平行度，画质锐度无损。NiSi耐司ARND32000滤镜特有的防漏光垫片设计，避免因长时间曝光时杂光进入。
NiSi耐司此次还新推出纳米镀膜软渐变滤镜SoftNanoGND16，采用性能极其稳定的环保光学玻璃(H-K9L)结合纳米镀膜制造，熔炼后经过精密退火，减小因应力带来的滤镜变形，双面超光滑表面光学抛光技术，确保影像超高的清晰度。经200℃高温镀膜，光谱曲线比较平直，从可见光到近红外的各个波长均匀透过，灰度渐变柔和自然，最大可实现降低4档曝光效果。
自此，NiSi耐司已逐步建立起方形滤镜和圆形滤镜两套完整的滤镜系统。NiSi耐司方形滤镜系统，以及一部分专业圆形滤镜都采用了H-K9L光学玻璃材料，和Nano纳米镀膜来提高光学透过率、降低反射，以保证一流的成像质量。目前，数码单反相机及微单相机都在逐步提高像素，专业级相机都维持在2000万到3000万像素级别，这对滤镜等光学配件产品也提出了更加严峻的挑战。应对超高像素相机，普通玻璃滤镜、树脂材质滤镜已经无法满足，这些材质的滤镜光线透过率较低，对最终成像画质形成恶劣影响。而NiSi耐司的全系列方形滤镜都采用H-9KL光学玻璃材料和Nano纳米镀膜技术，完全可以满足超高像素相机的专业要求。
NiSi耐司滤镜产品备受国外用户瞩目，和许多国外品牌的滤镜品牌相比，耐司进入滤镜市场时间并不长，但充满创新精神，屡屡发布新品，刷新行业标准，而且价格相对亲民。在此之前，主流方形滤镜市场主要被进口品牌占据，基本上所有方形滤镜（包括进口品牌）都在采用树脂作为原料，也有一部分用两片玻璃夹一片树脂工艺。NiSi耐司真正使用光学玻璃作为方形滤镜的原料，双面纳米镀膜来完成，以达到低反射、低色偏、全高清的特点，颇受国外用户欢迎，目前NiSi耐司滤镜已远销东南亚、欧洲、美国。
（编辑：曹越实习编辑：曹晨）
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