DongjinSemichem以嘉柏微电子材料有限公司（CabotMicroelectronicsCorporation，以下称嘉柏）为对象，向特许法院提出的『关于钨用化学机械研磨（CMP）液』专利部分，1月18日表示专利无效审判中获得胜诉。
嘉柏是位于美国伊利诺伊的CMP液专门企业，是CMP液领域世界中的第一名企业，DongjinSemichem是生產包括CMP液的半导体与FPD用等材料的精密化学材料企业，将材料相关核心技术内在化，也是今年创社满50年的韩国企业。
成为本次诉讼对象的专利技术是嘉柏在1998年申请并登入，是以能蚀刻钨的化合物与钨蚀刻抑制剂构成的化学机械研磨组合物相关技术。CMP液是在半导体晶圆平坦化工程中使用的液态材料，CMP（ChemicalMechanicalPolishing）工程在高速迴转的CMP垫中，吸附半导体晶圆并将晶圆沉积物削平的工程，CMP液甚至担任CMP垫与半导体晶圆之间附加化学研磨的角色。
DongjinSemichem在钨用CMP液这部分独立开发成功并提高市场占有率，嘉柏以DongjinSemichem为对象所提出的专利权侵害禁止诉讼，对此，DongjinSemichem对嘉柏的专利提出专利无效审判，专利审判院表示嘉柏的专利无效。嘉柏先前建立不实的专利而牵制在钨用CMP液领域DongjinSemichem到现在，这次判决已暂停嘉柏的战略。
DongjinSemichem关系人表示：『透过这次判决想避免基于不实专利或无理的专利诉讼，希望公司彼此之间也以各自的技术力为基础来开启这善意的竞争。』『将会持续的技术开发与确保智慧财產权来席卷国内外钨用CMP液市场』，关系人表达如此的志向。
（工商时报）
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